芯片的重要性不言而喻,芯片制造的难度也与它的重要性成正比。一颗小小的芯片,从设计到制造,按照产业链环节划分,可以分为IC设计、材料、晶圆代工、设备、封装测试五个领域。

所有的生产都离不开设备,芯片对设备的依赖更强。IC设计完成后,需要晶圆加工厂根据设计图纸对晶圆进行加工,这其中包含前后两道工艺,前道工艺分为:光刻、薄膜、刻蚀、清洗、注入五大流程;后道工艺主要是互联、打线、密封等封装工艺。

这一系列过程所用设备,可分为晶圆制造设备、封装设备和测试设备等。晶圆制造设备又分为刻蚀机、光刻机、薄膜沉设备、CMP设备、检测设备等。

其中,难度最大的就是光刻机,光刻也是制造和设计的纽带。

技术与资金是光刻机两大梦魇

光刻机的制造难度首先体现在技术上。一台普通的光刻机大概拥有三万多个部件,可以说每个部件科技含量都非常高。其中难以攻克的瓶颈主要集中在透镜、掩膜版、光源、能量控制器等。

光源方面,必须要稳定、高质量地提供指定波长的光束。而能量控制器,也就是电源。电源要稳定、功率要足够大,否则光源发生器没办法稳定工作。此外,在大、稳的同时,还要考虑经济性能。

图:光刻机简易工作原理

掩膜版通俗点理解,相当于过去用胶片冲洗照片时的底片。底片如果精度不够,是洗不出来高精度照片的。光刻机施工前,要根据设计好的芯片电路图制作掩膜板。掩膜板材质是石英玻璃,玻璃上有金属铬和感光胶。通过激光在金属铬上绘制电路图。

透镜是用光学原理,将掩膜版上的电路图按比例缩小,再用光源映射的硅片上。光在多次投射中会产生光学误差。所以要控制误差,这些部件对精度要求都极高,全都是纳米级精度,就连测量台移动的控制器,也是纳米级精度。

除了技术难度,其次是资金上的困难。巨额的研发资金投入,让很多公司面临倒闭或者停产,以至于如今全球能生产光刻机的国家或公司寥寥无几。

全球洗牌,光刻机已成寡头市场

历史上,从全球角度来看,荷兰的ASML,日本的Nikon、Canon、Hitachi,美国的GCA、SVG、Ultratch、ASET、Perkin-Elmer、Eaton,民主德国的Zeiss都曾在光刻机制造的历史上留下自己的身影。

随着时间的推移,工艺技术的进步,光刻机真正的成为了“寡头”市场。上述企业有的已经退出光刻机市场,有的被收购,有的转战先进封装用光刻机市场。

目前全球半导体前道用光刻机的生产厂商有4家,分别是荷兰的ASML、日本的Nikon、Canon和上海微电子(SMEE)。其中ASML更是以巨大的优势,一家独占7成的市场。紧随其后的是Canon与Nikon,上海微电子暂无市场份额。

ASML脱胎于飞利浦光刻设备研发小组。飞利浦从1971年开始,在此前开发的透镜式显影装备基础上,开发透镜式非接触光刻设备。随后一段传奇的产业经历让ASML杀出重围,并于1995年上市。2000年推出TWINSCAN双工件台光刻机,ASML一举奠定霸主地位;随后进入EUV时代,ASML终于是一骑绝尘,可能已无人能比肩了。

几乎与ASML同时代,Canon公司1970年也涉足半导体制造设备领域,凭借世界领先的光学及精密机械生产技术,从研制2:1缩小投影和接触接近式光刻设备起步,先后向世界市场投放了PLA系列步进式、MPA系列等倍扫描式、投影式和FPA系列步进缩小投影式、扫描式三大系列的光学光刻设备约10000台,但由于公司在技术上的决策失误,从2008年逐步退出半导体用光刻机市场。

Nikon的起步要稍晚一些,1980年代,Nikon开始进入半导体制造领域,在近40年的光刻机研究与开发中,已向世界各国或地区销售了各种光刻机超过9000多台,曾创下年销量900台的纪录,不过自2008年和2009年丢失台湾、韩国市场,Nikon开始一蹶不振,出货量急速下滑。

根据三家公司17年财报显示,2017年全球晶圆制造用光刻机台出货294台,其中ASML就出货198台,占全球近7成的市场。其中EUV光刻机11台,ArFi光刻机76台,ArF光刻机14台,KrF光刻机71台,i-line光刻机26台。

Canon出货70台,占比24%,集中在低端产品,其中KrF光刻机20台,i-line光刻机50台。

Nikon出货26台光刻机,占有率不足10%,其中ArFi光刻机6台,ArF光刻机8台,KrF光刻机2台,i-line光刻机10台。

EUV(Extreme Ultra-violet),常称作极紫外光刻,它以波长为10-14nm的极紫外光作为光源的光刻技术,可以制作32nm以下制程的芯片。ArFi、ArF、KrF,长称作深紫外光刻,它们分别以波长为157nm、193nm、248nm的深紫外光作为光源的光刻技术。ArF以上被称作高端光刻机。

顶级技术EUV垄断,追赶之路漫漫

到了2018年,据财报显示,三巨头半导体用光刻机出货374台,较2017年的294台增加80台,增长27.21%。而从EUV、ArFi、ArF机型的出货来看,全年共出货134台。其中ASML出货120台,占有9成的市场。

至此,高端光刻机市场已经被ASML垄断,且更为关键的是,最先进的7nm制程的EUV光刻机只有ASML一家公司可以生产,再无第二家,如果想要生产最先进的芯片,就必须要和它合作,且有价无市。

近年来我国虽然在半导体领域不断追赶,上海微电子也有了自己的光刻机,但只能用于90nm制程的芯片制造,虽然只是80nm的差距,但所需的技术可能相差从地球到太阳的距离。EUV技术是人类科学史上的奇迹,短期国内在光刻机领域实现突破的可能性几乎为0。

来源:新浪网